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| 蒸發(fā)式真空鍍膜機是如何工作的？ |
| 發(fā)布時間：2014-07-08 瀏覽：4815 次 |
通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。 此方法最早由英國物理學家M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術之一。 蒸發(fā)物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發(fā)。 蒸發(fā)物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。 膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時間(或決定于裝料量)，并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。 從蒸發(fā)源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。 蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。 以上是進口真空鍍膜設備維修專家愛加真空為大家提供的蒸發(fā)式真空鍍膜機的工作原理，希望能夠對大家有所幫助。
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