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蒸發(fā)鍍膜設(shè)備運(yùn)行與維護(hù) |
發(fā)布時(shí)間:2014-03-19 瀏覽:4686 次 |
蒸發(fā)鍍膜設(shè)備工作方式就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi),采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發(fā)、升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝.
在真空條件下成膜可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過(guò)程中于分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)(如氧化等),以及減少成膜過(guò)程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量,從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。
通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa,對(duì)于蒸發(fā)源與基板距離較遠(yuǎn)和薄膜質(zhì)量要求很高的場(chǎng)合,則要求壓力更低。
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