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| 電鍍蒸發(fā)鍍膜設(shè)備介紹 |
| 發(fā)布時間：2014-02-20 瀏覽：4185 次 |
電鍍蒸發(fā)鍍膜設(shè)備介紹 用作真空蒸發(fā)鍍的裝置稱為蒸發(fā)鍍膜設(shè)備。蒸發(fā)鍍膜設(shè)備主要由真空室、排氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)和電氣設(shè)備四部分組成。 真空室是放置鍍件、進行鍍膜的場所，直徑一般為400~700mm，高400~800mm，用不銹鋼制作，有水冷卻裝置。 真空鍍膜設(shè)備中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。 為了提高鍍層厚度的均勻性，真空室內(nèi)的鍍件夾具有行星機構(gòu)或自轉(zhuǎn)加公轉(zhuǎn)的運動裝置，如用行星運動方式，這種運動方式成膜均勻性好，臺階覆蓋性能良好，鍍件裝載量大，可以充分利用真空鍍膜室的有效空間，是目前經(jīng)常采用的運動方式。 排氣系統(tǒng)一般由機械泵、擴散泵、管道和閥門組成。為了提高抽氣速率，可在機械泵和擴散泵之間加機械增壓泵。因此，排氣系統(tǒng)既要求在較短的時間內(nèi)獲得低氣壓以保證快速的工作循環(huán)，也要求確保在蒸氣鍍膜時迅速排除從蒸發(fā)源和工作物表面所產(chǎn)生的氣體。 蒸發(fā)系統(tǒng)包括蒸發(fā)源和加熱蒸發(fā)源的電氣設(shè)備。電氣設(shè)備包括測量真空和膜層厚度及控制臺等。
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