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鍍膜設(shè)備技能需求
發(fā)布時(shí)間:2014-02-17 瀏覽:4276 次

鍍膜設(shè)備技能需求


1、鍍膜設(shè)備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件(法蘭、密封圈等)的規(guī)劃方式,應(yīng)契合GB/T6070
的規(guī)則。


2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應(yīng)設(shè)備真空丈量規(guī)管,別離丈量各部位的真空度。
當(dāng)發(fā)現(xiàn)電場(chǎng)對(duì)丈量形成攪擾時(shí),應(yīng)在丈量口處設(shè)備電場(chǎng)屏蔽設(shè)備。


3、若是設(shè)備運(yùn)用的主泵為分散泵時(shí),應(yīng)在泵的進(jìn)氣口一側(cè)裝設(shè)有油蒸捕集阱


4、鍍膜設(shè)備的鍍膜室應(yīng)設(shè)有觀察窗,應(yīng)設(shè)有擋板設(shè)備。觀察窗應(yīng)能觀察到堆積源的作業(yè)情況以
及其他關(guān)鍵部位。


5、離子鍍堆積源的規(guī)劃應(yīng)盡能夠進(jìn)步鍍膜過(guò)程中的離化率,進(jìn)步鍍膜資料的利用率,合理匹配
堆積源的功率,合理安置堆積源在真空室體的方位。


6、合理安置加熱設(shè)備,通常加熱器規(guī)劃規(guī)劃應(yīng)使被鍍工件溫升均勻共同。


7、工件架應(yīng)與真空室體絕緣,工件架的規(guī)劃應(yīng)使工件膜層均勻


8、離子鍍膜設(shè)備通常應(yīng)具有工件負(fù)偏壓和離子轟擊電源,離子轟擊電源應(yīng)具有按捺非正常放電
設(shè)備,保持作業(yè)安穩(wěn)


9、真空室接不一樣電位的各部分間的絕緣電阻值的大小,均按GB/T11164-1999中的4.4.6
1、鍍膜設(shè)備環(huán)境溫度:10-30oC
2、鍍膜設(shè)備相對(duì)濕度:不大于75%
3、鍍膜設(shè)備冷卻水進(jìn)水溫度:不高于25oC
4、鍍膜設(shè)備冷卻水質(zhì):城市自來(lái)水或適當(dāng)質(zhì)量的水
5、鍍膜設(shè)備供電電源:380V三相50Hz或220V單相50Hz(由所用電器需求而定);電壓動(dòng)搖規(guī)模:
342-399V或198-231V;
頻率動(dòng)搖規(guī)模:49-51Hz.
6、鍍膜設(shè)備所需的壓縮空氣,液氮,冷水、熱水等的壓力、溫度,消耗量等,均應(yīng)在產(chǎn)品運(yùn)用
說(shuō)明書(shū)中寫(xiě)明。
7、鍍膜設(shè)備周圍環(huán)境整齊,空氣清洗,不該有導(dǎo)致電器及其他金屬件外表腐蝕或?qū)е陆饘匍g導(dǎo)
電的塵土或氣體存在。

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