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| 各種真空鍍膜機(jī)工作原理介紹 |
| 發(fā)布時(shí)間：2014-12-17 瀏覽：7298 次 |
1. 空心陰極離子鍍?cè)碓诒镜渍婵諡楦哒婵盏臈l件下由陰極中通入氬器氣1-10-2在陰極與輔助陽(yáng)極之間加上引弧電壓使氬氣發(fā)生輝光放電在空心陰極內(nèi)產(chǎn)生低壓等離子體放電陰極溫度升高到2300-2400K時(shí)由冷陰極放電轉(zhuǎn)為熱陰極放電開(kāi)始熱電子發(fā)射放電轉(zhuǎn)為穩(wěn)定狀態(tài)。 通入反應(yīng)氣體可以制化合膜。 2. 測(cè)控濺射工作原理先將真空室預(yù)抽至10-3Pa然后通入氣體如氬氣氣壓為1-10 Pa時(shí)給靶加負(fù)電壓產(chǎn)生輝光放電電子在電場(chǎng)正作用下加速飛向基片時(shí)與氬原子碰撞電離出Ar和另一個(gè)電子轟擊靶材由二次電子電離的越來(lái)越多不斷轟擊靶材磁場(chǎng)改變電子的運(yùn)動(dòng)方向以電磁場(chǎng)束縛和延長(zhǎng)電子的運(yùn)動(dòng)軌跡從而提高電子對(duì)工作氣體的電離幾率。 3. 多弧離子鍍工作原理其工作原理為冷陰極自持弧光放電其物理基礎(chǔ)為場(chǎng)致發(fā)射。 被鍍材料接陰極真空室接陽(yáng)極真空室抽為高真空時(shí)引發(fā)電極啟動(dòng)器接觸拉開(kāi)此時(shí)陰極與陽(yáng)極之間形成穩(wěn)定的電弧放電陰極表面布滿飛速游動(dòng)的陰極斑部分離子對(duì)陰極斑的轟擊使其變成點(diǎn)蒸發(fā)源以若干個(gè)電弧蒸發(fā)源為核心的為多弧離子鍍。 4. 電阻蒸發(fā)式鍍膜機(jī)膜材即要鍍的材料放于蒸發(fā)舟中置于真空室中抽到一定真空時(shí)通過(guò)電阻加熱膜材使其蒸發(fā)當(dāng)蒸發(fā)分子的平均自由程大于蒸發(fā)源至基片的線性尺寸時(shí)原子和分子從蒸發(fā)源中逸出后到達(dá)基片形成膜。 為了使膜厚均勻可以利用電機(jī)帶動(dòng)基片旋轉(zhuǎn)并用膜厚儀控制膜厚制出優(yōu)質(zhì)膜。 5. E型槍工作原理陰極燈絲加熱后發(fā)射具有0.3 EV初動(dòng)能的熱電子這些熱電子在燈絲陰極與陽(yáng)極之間的電場(chǎng)作用下加速并會(huì)聚成束狀。 在電磁線圈的磁場(chǎng)中電子束沿E x B的方向偏轉(zhuǎn)通過(guò)陰極時(shí)電子的能量提高到10KV通過(guò)陽(yáng)極電子偏轉(zhuǎn)270度角而入射坩堝內(nèi)的膜材表面上轟擊膜材使其蒸發(fā)。 6. PCVD鍍膜工作原理將被鍍件放在低壓輝光放電的陰極上通入適當(dāng)氣體在一定溫度下利用化學(xué)反應(yīng)和離子轟擊相結(jié)合的過(guò)程在工件表面獲得涂層。
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