1.清洗前,看片子是否短路,是否大小與樣品托合適,蒸鍍時(shí)放樣品托的架子升最高,且旋轉(zhuǎn)。
2.打開電流開關(guān),及時(shí)打開ABC舟中一個(gè),打開束源爐,及時(shí)打開其中一個(gè)啟動(dòng)A、B等。
3.摻雜材料用量覆蓋舟底即可。
操作步驟:
1、打開總開關(guān),包括冷卻水開關(guān)和機(jī)器開關(guān)。
2、打開鍍膜機(jī)總開關(guān),樣品旋轉(zhuǎn)開關(guān),升降開關(guān)按鈕。
3、將玻璃基板至于樣品托中,導(dǎo)電一面向下。
4、蒸鍍室、預(yù)處理室放氣。
5、打開蒸鍍室與預(yù)處理室之間的閘板閥(順時(shí)針方向關(guān),逆時(shí)針方向開),推拉桿推至大真空室中,將樣品放到推拉桿上,將推拉桿拉回至預(yù)處理中。關(guān)閉閘板閥(順時(shí)關(guān)閉,逆時(shí)針開)
6、打開快門控制電源,打開快門一,更換鎢絲(每做一次實(shí)驗(yàn)更換一次),將鋁絲掛在鎢絲上(5個(gè),掛于彎折處),檢查蒸鍍所需材料。
7、將掩膜版放置于掩膜版架上。
8、打開機(jī)械A(chǔ)、機(jī)械B泵。打開四個(gè)真空計(jì),關(guān)閉放氣閥。
9、基片預(yù)處理(打開角閥):當(dāng)處理室真空度達(dá)到4.0E1 (4.0×10)Pa
時(shí)關(guān)閉預(yù)角閥,打開大真空室角閥,再打開紫外轟擊電源(直流濺射電源),調(diào)節(jié)電流0.025-0.030A。轟擊10-15分鐘(等預(yù)處理室與蒸鍍室氣壓平衡,打開閘板)。
10、插入樣品托:再次打開蒸鍍室與預(yù)處理室之間的閘板閥(順時(shí)針方向開,逆時(shí)針方向關(guān)),將樣品傳送至蒸鍍室,用機(jī)械手抓取樣品托,并保持在機(jī)械手上;然后將將推拉桿拉回至預(yù)處理中,關(guān)閉閘板閥;降低蒸鍍臺(tái)(注意樣品托擋板位置)與機(jī)械手平齊,將樣品托輕輕推入蒸鍍臺(tái)下方的樣品托導(dǎo)引槽(上方導(dǎo)引槽)。
11、插入掩模板:將樣品升降電源調(diào)到手動(dòng),將蒸鍍臺(tái)旋轉(zhuǎn)180度(用皮帶精確定位),用升降盒使蒸鍍臺(tái)最下方的掩模板導(dǎo)引槽與掩膜版庫(kù)軌道,至于同一水平線上,用機(jī)械手將掩膜版輕輕推至蒸鍍臺(tái)的掩
模板導(dǎo)引槽。
12、當(dāng)大真空室的壓強(qiáng)為1.2E1的時(shí)候,關(guān)閉角閥,打開閘板閥。
13、關(guān)閉機(jī)械泵A,升起樣品臺(tái)。
14、打開分子泵。抽到6.0-6.5E-4(大概需要兩個(gè)小時(shí))。
15、蒸鍍過(guò)程:打開快門總開關(guān),晶振開關(guān)(F1是清零,F(xiàn)5是開始或停止)。
16、打開PID(束源爐)開關(guān),調(diào)節(jié)溫度,依次蒸鍍相關(guān)材料,制備OLED器件。
17、關(guān)閉分子泵閥門,放氣(真空室頂部放氣按鈕)。打開真空室,取出樣品。
18、關(guān)閉真空室,待分子泵數(shù)字為零時(shí)關(guān)閉分子泵后關(guān)閉機(jī)械泵B,打開機(jī)械泵A的閥門,打開機(jī)械泵A抽低真空。如果長(zhǎng)時(shí)間不用時(shí)一定要關(guān)閉循環(huán)水冰柜電源,以防凍裂。
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