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| PVD真空鍍膜常見問題解析 |
| 發(fā)布時間：2014-12-15 瀏覽：5865 次 |
Q1: 請問什么是PVD? 真空電鍍加工真空鍍膜技術 A1: PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。 Q2: 請問什么是PVD鍍膜? 什么是PVD鍍膜機? A2: PVD(物理氣相沉積)技術主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。 近十多年來，真空離子鍍技術的發(fā)展是最快的，它已經(jīng)成為了當代最先進的表面處理方法之一。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜;通常所說的PVD鍍膜機，指的也就是真空離子鍍膜機。 Q3: 請問PVD鍍膜的具體原理是什么? A3: 離子鍍膜(PVD鍍膜)技術，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應產(chǎn)物沉積在工件上。 Q4: 請問PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學電鍍(水電鍍)相比有何優(yōu)點? A4: PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學電鍍的相同點是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。 兩者的不同點是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定;PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為廣泛，可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮;PVD鍍膜不會產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。 Q5: 請問PVD鍍膜能否代替化學電鍍? A5: 在現(xiàn)階段，PVD鍍膜是不能取代化學電鍍的，并且除了在不銹鋼材料表面可直接進行PVD鍍膜外，在很多其他材料(如鋅合金、銅、鐵等)的工件上進行PVD鍍膜前，都需要先對它們進行化學電鍍Cr(鉻)。 PVD鍍膜主要應用在一些比較高檔的五金制品上，對那些價格較低的五金制品通常也只是進行化學電鍍而不做PVD鍍膜。 Q6: 請問采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層有什么特點? A6: 采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數(shù))、很好的耐腐蝕性和化學穩(wěn)定性等特點，膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。 Q7: 請問PVD能在鍍在什么基材上? A7: PVD膜層能直接鍍在不銹鋼以及硬質(zhì)合金上，對鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應先進行化學電鍍鉻，然后才適合鍍PVD。 Q8: 請問PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類有那些? A8: PVD鍍膜技術是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等)、氮化物膜(TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)，以及氧化物膜(如TiO等)。 Q9: 請問PVD鍍膜膜層的厚度是多少? A9: PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.1μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.1μm~1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工。 Q10: 請問PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色有哪些? A10: 我們目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關參數(shù)，可以控制鍍出的顏色;鍍膜結束后可以用相關的儀器對顏色值進行測量，使顏色得以量化，以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。 Q11: 請問目前PVD鍍膜技術主要應用在哪些行業(yè)? A11: PVD鍍膜技術的應用主要分為兩大類：裝飾鍍和工具鍍。裝飾鍍的目的主要是為了改善工件的外觀裝飾性能和色澤同時使工件更耐磨耐腐蝕延長其使用壽命;這方面主要應用五金行業(yè)的各個領域，如門窗五金、鎖具、衛(wèi)浴五金等行業(yè)。 工具鍍的目的主要是為了提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數(shù)，提高工件的使用壽命;這方面主要應用在各種刀剪、車削刀具(如車刀、刨刀、銑刀、鉆頭等等)等產(chǎn)品中。 Q12: 請問PVD鍍膜的成本是不是很高? A12: 雖然使用PVD鍍膜技術能夠鍍出高品質(zhì)的膜層，但是PVD鍍膜過程的成本其實并不高，它是一種性價比非常高的表面處理方式，所以近年來PVD鍍膜技術發(fā)展得非?？臁?/p> PVD鍍膜已經(jīng)成為五金行業(yè)表面處理的發(fā)展方向。 PVD是英文Physical Vapor Deposition(物理氣相沉積)的縮寫，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。 NCVM=Non-Conductive Vacuum Metallization:直譯為不導電真空電鍍(金屬表面化),制程:不導電鍍膜.其實PVD是主要用物理和化學比較的角度說的,而NCVM是側重于鍍膜后產(chǎn)生的效果來表述的.其實兩者是一樣的.
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