當前位置:網(wǎng)站首頁 > 技術(shù)中心
技術(shù)中心 Technology
真空鍍膜設(shè)備真空室的設(shè)計方法 |
發(fā)布時間:2014-12-12 瀏覽:4717 次 |
真空鍍膜技術(shù)是在真空條件下采用物理或化學(xué)方法,使物體表面獲取所需膜體,真空鍍膜技術(shù)根據(jù)其采用方法的不同科分成蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積以及分子束外延等,這次分析的鍍膜設(shè)備采用的是磁控濺射鍍膜機鍍膜。 真空室是真空設(shè)備的一個主要部位,真空室設(shè)計主要考慮的就是密封性和可靠性,結(jié)構(gòu)必須要合理,真空設(shè)備的材料生產(chǎn)都是在真空室內(nèi)進行的,材料對真空度的影響要小,設(shè)計不能馬虎,要注意一些問題。 使用磁控濺射的真空鍍膜設(shè)備通常采用的是圓筒主體結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)上要保證快速抽空,因氣袋會緩慢的放氣,因此要避免出現(xiàn)隔離孔穴,真空系統(tǒng)上端會加裝磁控濺射槍,為了使真空室和元件有足夠的強度,保證在外部和內(nèi)部的作用力下不產(chǎn)生形狀的變化,厚度需要足夠。 焊接是真空室制造中的一道重要 工序,保證焊接之后的真空室不會產(chǎn)生漏氣現(xiàn)象,須合理設(shè)計焊接結(jié)構(gòu),提高焊接質(zhì)量,處在超高真空的內(nèi)壁粗糙度要拋光使室外室內(nèi)表面很光潔,須特別注意的是防止生銹。
推薦閱讀 |