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真空鍍膜機(jī)膜厚如何測(cè)量?
發(fā)布時(shí)間:2014-12-12 瀏覽:4905 次

  在使用真空鍍膜機(jī)鍍膜之后,為了需要可能會(huì)要測(cè)量膜層的厚度,測(cè)量膜層的厚度用什么方法呢?

  最直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM),這種儀器可以直接驅(qū)動(dòng)蒸發(fā)源,通過(guò)PID控制循環(huán)驅(qū)動(dòng)擋板,保持蒸發(fā)速率。

  只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接,它就可以控制整個(gè)的鍍膜過(guò)程。但是(QCM)的精確度是有限的,部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。

  此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定,但溫度較高時(shí),它會(huì)變得對(duì)溫度非常敏感。在長(zhǎng)時(shí)間的加熱過(guò)程中,很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區(qū)域,從而對(duì)膜層造成重大誤差。

  光學(xué)監(jiān)控是高精密鍍膜的的首選監(jiān)控方式,這是因?yàn)樗梢愿_地控制膜層厚度(如果運(yùn)用得當(dāng))。

  精確度的改進(jìn)源于很多因素,但最根本的原因是對(duì)光學(xué)厚度的監(jiān)控。

 

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