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電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)的優(yōu)點(diǎn)及缺點(diǎn)?
發(fā)布時(shí)間:2014-12-02 瀏覽:12624 次

  電子束蒸發(fā)源是利用熱陰極發(fā)射電子在電場作用下成為高能量密度的電子束直接轟擊到鍍料上。動(dòng)能轉(zhuǎn)化為熱能,使鍍料加熱汽化,完成蒸發(fā)鍍膜。

  電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)的優(yōu)點(diǎn):

  1、電子束加熱比電阻加熱具有更高的通量密度,可以蒸發(fā)高熔點(diǎn)材料,如W、Mo、Al2O3等,并可得到較高的蒸發(fā)速率;

  2、被蒸發(fā)材料置于水冷銅坩堝內(nèi),真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)可避免坩堝材料污染,可制備高純薄膜;

  3、電子束蒸發(fā)粒子動(dòng)能大,有利于獲得致密、結(jié)合力好的膜層。

  電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)的缺點(diǎn):

  1、結(jié)構(gòu)較復(fù)雜,設(shè)備價(jià)格較貴;

  2、若蒸發(fā)源附近的蒸氣密度高,電子束流和蒸氣粒子之間會(huì)發(fā)生相互作用,電子的通量將散失和軌道偏移;同時(shí)引起蒸氣和殘余氣體的激發(fā)和電離,會(huì)影響膜層質(zhì)量。

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