當(dāng)前位置：網(wǎng)站首頁 > 技術(shù)中心
技術(shù)中心 Technology
| 蒸發(fā)鍍膜與磁控濺射的區(qū)別是怎樣的？ |
| 發(fā)布時(shí)間：2014-12-02 瀏覽：7191 次 |
蒸發(fā)鍍膜是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或者離子形式被蒸發(fā)出來，且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。 蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是非常容易保證，具體能調(diào)控因素同上，但因?yàn)樵碛邢?，?duì)非單一祖分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。 濺射鍍膜能簡單理解為利用電子或者高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或者離子形式被濺射出來，且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，最終形成薄膜。 濺射鍍膜又分成許多種，和蒸發(fā)鍍膜的不同之處就是在于濺射速率將成為主要的參數(shù)之一。 濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性非常容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)比較差(因?yàn)槭敲}沖濺射)，晶向(外沿)生長的控制也比較一般。 本文由真空鍍膜機(jī)廠家收集整理，僅供真空愛好者學(xué)習(xí)交流，本站不具有版權(quán)! 推薦閱讀 |
  |
