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| 真空鍍膜新技術(shù)應(yīng)用？ |
| 發(fā)布時(shí)間：2014-09-29 瀏覽：4875 次 |
二十一世紀(jì)真空領(lǐng)域生產(chǎn)工具的技術(shù)革命 真空鍍膜設(shè)備,是集真空技術(shù)、蒸發(fā)技術(shù)、濺射技術(shù)及控制技術(shù)、膜層技術(shù)等多項(xiàng)技術(shù)于一體的高新科技產(chǎn)品。 涉及機(jī)械、真空、電子、光學(xué)、薄膜、材料等多門學(xué)科理論。 一、背景技術(shù)： 目前國內(nèi)各款式的多弧真空鍍膜機(jī)、磁控真空鍍膜機(jī)以及多弧、磁控復(fù)合真空鍍膜機(jī)等基本上都是轉(zhuǎn)架轟擊結(jié)構(gòu)。 這種轉(zhuǎn)架轟擊清洗結(jié)構(gòu)對(duì)于金屬制品來說倒還起點(diǎn)作用, 對(duì)于塑料、樹脂、亞克力、玻璃、陶瓷等制品,因?yàn)樗鼈兌际墙^緣不導(dǎo)電的,所以轉(zhuǎn)架轟擊清洗就失去作用。 為了改善膜層的穩(wěn)定性和各項(xiàng)理化性能指標(biāo)的重復(fù)性、一致性，有人在真空室上增設(shè)了條形離子源。這種方案在實(shí)際生產(chǎn)中效果甚微,僅起到鍍膜前期的轟擊清洗作用,靶與條形離子源為90°角,離化效果差 ,根本起不到輔助鍍膜作用,僅起轟擊清洗作用。 可見,由于離化率低，存在著以下弊端： 1、轉(zhuǎn)架轟擊、條形離子源離化效果遠(yuǎn)遠(yuǎn)達(dá)不到要求。 2、金屬制品(裝飾膜)必需加溫鍍制(200℃左右)才不影響膜層附 著力。 3、鍍制塑料、樹脂、亞克力、玻璃、陶瓷等制品, 很難鍍上膜或根本鍍不上膜,而且塑料、樹脂、亞克力等制品很容易熱變形，更不用說加溫了。 4、由于必需加溫鍍制鍍膜,鍍件硬度變軟(如陽江不銹鋼刀硬度降幅不允許≥5度，因整個(gè)行業(yè)鍍膜都達(dá)不到硬度降幅為0的水平，所以刀具行業(yè)沒有辦法，只能定這個(gè)硬度降幅標(biāo)準(zhǔn)了)。 5、有色金屬制品(如銅、鋁、鋅、鎂等) 必需經(jīng)過水鍍后才能鍍上膜層。 6、陶瓷制品(如宮廷陶瓷罐等)表面了上釉就鍍不上膜層。 7、水鍍都鍍不了的汽車煙灰缸，此類型鍍膜機(jī)就根本鍍不上膜。二、一種新穎鍍膜工藝應(yīng)用技術(shù)誕生： 011真空技術(shù)工作室發(fā)明的新穎鍍膜工藝應(yīng)用技術(shù)，在PVD沉積鍍膜時(shí)提供一種獨(dú)特的等離子來增強(qiáng)大面積離化效應(yīng)而實(shí)現(xiàn)低溫離子鍍膜。 1、低溫離子鍍膜關(guān)鍵在于離子裝置所產(chǎn)生的離化效應(yīng)以及它的安裝位置,在特定的區(qū)域內(nèi)形成一個(gè)獨(dú)特的等離子區(qū)域，這樣就充分發(fā)揮離子的作用, 離子分布均勻,離化效應(yīng)好,大大地改善鍍膜效果。 2、本新穎鍍膜工藝應(yīng)用技術(shù)在鍍膜過程中為邊鍍膜邊轟擊, 而且為大面積離子放電，高能量的離子打入工件表面，使膜層與工件間形成顯微合金層，提高結(jié)合強(qiáng)度，這樣更促進(jìn)離子輔助鍍膜作用,大大地改善膜層的附著力及膜層的穩(wěn)定性和均勻性。 3、由于離子充分發(fā)揮得當(dāng),離化效應(yīng)好,鍍制塑料、樹脂、亞克力、玻璃、陶瓷等制品很容易鍍上膜,而且塑料、樹脂、亞克力等制品不易變形，塑料制品不噴涂底漆，直接在塑料制品鍍膜。 4、由于邊鍍膜邊轟擊, 金屬制品不需加溫直接鍍制膜層, 實(shí)現(xiàn)低溫鍍膜,附著力特強(qiáng)。 5、低溫鍍膜離子裝置很容易完成二次輝光或多次輝光。 6、本新穎鍍膜工藝應(yīng)用技術(shù)最大特點(diǎn)： 1)、充分發(fā)揮離化效應(yīng)，無論是金屬鍍件還是非金屬鍍件直接鍍膜，膜層附著力特強(qiáng)。 2)、離化效應(yīng)好, 金屬制品不需加溫直接鍍制膜層,實(shí)現(xiàn)低溫鍍膜,去掉傳統(tǒng)的加熱裝置，節(jié)電30%以上，鍍膜時(shí)間節(jié)省10%以上，提高工效當(dāng)然就省錢。 3)、由于低溫鍍膜,鍍件硬度不變，硬度降幅為0(如陽江不銹鋼刀及陽江陶瓷刀)。 4)、離化效應(yīng)好,有色金屬制品(如銅、鋁、鋅、鎂等)不需水鍍直接鍍制膜層。 5)、發(fā)揮離化效應(yīng)，陶瓷制品表面無論上釉還是不上釉，均可直接鍍制膜層。 6)、大面積離化效應(yīng),水鍍都鍍不了的汽車煙灰缸在此鍍膜機(jī)上就很容易鍍上膜。 本工藝應(yīng)用技術(shù)屬于真空鍍膜物理氣相沉積(PVD)離化效應(yīng)技術(shù)，是真空表面處理設(shè)備中一種新穎鍍膜工藝應(yīng)用技術(shù)。 推薦閱讀 |
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