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真空鍍膜機(jī)鍍鋁層問(wèn)題分析?
發(fā)布時(shí)間:2014-08-08 瀏覽:9734 次

  以下是進(jìn)口真空鍍膜機(jī)維修專家愛(ài)加真空為各位收集整理的關(guān)于真空鍍膜機(jī)常見(jiàn)鍍鋁層出現(xiàn)的問(wèn)題及相對(duì)應(yīng)的解決方法,希望能幫到各位!

  常見(jiàn)問(wèn)題:

  氧化層表面有點(diǎn)狀痕跡

  解決方法:

  (1)預(yù)熔時(shí)電流過(guò)高或未加擋板。應(yīng)適當(dāng)降低預(yù)熔電流及加設(shè)擋板。

  (2)蒸發(fā)電流過(guò)高。應(yīng)適當(dāng)降低

  常見(jiàn)問(wèn)題:

  解決方法:

  氧化層表面有流痕印跡

  解決方法:

  (1)鍍件表面清潔不良。應(yīng)加強(qiáng)清潔處理。

  (2)擦拭鍍件時(shí)蘸用乙醇過(guò)多。應(yīng)減少乙醇的蘸用量。

  (3)手指接觸鍍件表面后留下指印。應(yīng)禁止手指接觸鍍件表面。

  (4)唾液噴濺到鍍件表面,使鍍層表面產(chǎn)生圈狀印跡。操作者應(yīng)帶上口罩

  常見(jiàn)問(wèn)題:

  解決方法:

  氧化層表面發(fā)花

  (1)氧化電壓太高,氧化層部分發(fā)藍(lán)。應(yīng)適當(dāng)降低電壓。

  (2)各氧化點(diǎn)的電壓或氧化時(shí)間不相同。應(yīng)使各氧化點(diǎn)的電壓和氧化時(shí)間保持一致。

  (3)電解液溫度太高。應(yīng)適當(dāng)降低

  常見(jiàn)問(wèn)題:

  氧化層表面有灰點(diǎn)

  解決方法:

  (1)真空室底盤或室壁太臟。應(yīng)使用乙醇擦拭干凈。

  (2)夾具太臟。應(yīng)按工藝規(guī)程定期清洗夾具

  常見(jiàn)問(wèn)題:

  解決方法:

  氧化層表面發(fā)紅

  (1)陽(yáng)極氧化電壓偏低,氧化層厚度不夠。應(yīng)將電壓提高到120V左右。

  (2)氧化時(shí)間太短,導(dǎo)致陽(yáng)極氧化后表面發(fā)紅。應(yīng)適當(dāng)延長(zhǎng)氧化時(shí)間

  常見(jiàn)問(wèn)題:

  氧化層表面發(fā)黃

  解決方法:

  (1)氧化電壓太高,氧化層太厚。應(yīng)適當(dāng)降低電壓。

  (2)氧化時(shí)間太長(zhǎng)。應(yīng)適當(dāng)縮短。

  (3)氧化點(diǎn)太多。應(yīng)適當(dāng)減少

  常見(jiàn)問(wèn)題:

  氧化后鍍層起泡脫落

  解決方法:

  (1)鍍件表面油a8未除凈。應(yīng)加強(qiáng)脫脂處理。

  (2>真空度太低。應(yīng)適當(dāng)提高蒸發(fā)時(shí)的真空度。由于鋁是易氧化的金屬,又容易吸收氧,在低真空度下蒸發(fā),會(huì)因吸收剩余氣體而形成茶褐色的氧化膜,導(dǎo)致反射率降低,鍍層易起泡脫落。通常預(yù)熔的真空度為0.067Pa;蒸鍍裝飾性的鋁膜,蒸發(fā)時(shí)的真空度可適當(dāng)?shù)鸵恍?,一般和預(yù)熔的真空度相同;蒸鍍質(zhì)量要求高的鋁膜,真空度應(yīng)當(dāng)高一些,一般為(4—6.7)x10”h。

  (3)鍍件表面有異物附著。可實(shí)施離子轟擊。一般蒸鍍鋁膜時(shí)進(jìn)行離子轟擊的工藝條件

  為:電壓2—3kV;電流60—140mA;時(shí)間5—30min

  常見(jiàn)問(wèn)題:

  氧化后鍍層露底

  解決方法:

  鍍鋁層太薄。應(yīng)適當(dāng)延長(zhǎng)蒸鍍時(shí)間,增加膜層厚度。通常,鋁膜厚度為(5—20)xlo—3mm,控制其厚度主要采用計(jì)時(shí)法,亦可根據(jù)膜層的透光程度來(lái)判斷膜厚,這些方法都需要操作人員具有豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)才能控制,但對(duì)裝飾鍍層用上述方法已足可滿足要求

  常見(jiàn)問(wèn)題:

  氧化層厚度不足

  (1)電解時(shí)間太短。應(yīng)適當(dāng)延長(zhǎng)。

  (2)氧化電壓偏低。應(yīng)適當(dāng)提高。

  (3)接觸不良。應(yīng)改進(jìn)接觸方式,陽(yáng)極(鎳針)與鍍件表面鋁層必須接觸良好。

  (4)接觸點(diǎn)的數(shù)量不夠。應(yīng)增加接觸點(diǎn)。對(duì)于面積較大的鍍件,應(yīng)在120~的分度線上設(shè)三個(gè)氧化點(diǎn)。

  (5)電解液溫度偏高。應(yīng)適當(dāng)降低。

  (6)接觸點(diǎn)被擊穿。應(yīng)變換接觸點(diǎn)】

  常見(jiàn)問(wèn)題:

  氧化層表面有灰白細(xì)點(diǎn)

  解決方法:

  (1)溶液中鋁含量增加。應(yīng)更換部分溶液。

  (2)電解液溫度太高。應(yīng)適當(dāng)降低。

  (3)鍍件水洗不足,表面殘留電解液,在水分或潮濕氣體作用下形成灰白色的氫氧化鋁細(xì)點(diǎn)。應(yīng)將氧化后的鍍件表面用蒸餾水洗凈電解液,然后擦干,最好是將氧化后的鍍件擦干后放人無(wú)水乙醇中浸1-2h,然后加溫到12.0~C保溫?cái)?shù)小時(shí)

  常見(jiàn)問(wèn)題:

  接觸點(diǎn)燒焦

  解決方法:

  (1)鍍件與夾具接觸不良。應(yīng)改善接觸條件,使其導(dǎo)電性能良好。

  (2)氧化電壓過(guò)高。應(yīng)適當(dāng)降低。

  (3)電解液濃度不正常。應(yīng)按配方進(jìn)行調(diào)整

  2.鍍鋁層表面蒸鍍一氧化硅保護(hù)膜故障的排除

  常見(jiàn)問(wèn)題:

  氧化層表面有針孔

  解決方法:

  (1)鍍鋁層太薄。應(yīng)適當(dāng)延長(zhǎng)蒸發(fā)時(shí)間。

  (2)靜電除塵不徹底。應(yīng)嚴(yán)格按照工藝要求進(jìn)行靜電除塵。

  (3)離子轟擊電流太大,時(shí)間太長(zhǎng)。應(yīng)適當(dāng)減小離子轟擊電流,一般60—140mA。離子轟擊

  規(guī)范應(yīng)視鍍件材質(zhì)的耐熱程度來(lái)調(diào)整,以防鍍件變形。

  (4)真空室和夾具太臟。應(yīng)定期清潔真空室和夾具

  常見(jiàn)問(wèn)題:

  氧化層脫邊

  解決方法:

  (1)鍍件邊緣清潔不良,有拋光粉、汗?jié)n和污物等。應(yīng)加強(qiáng)鍍件邊緣的清潔,擦拭時(shí)應(yīng)帶上

  工作手套。

  (2)夾具不清潔。應(yīng)徹底清潔夾具,特別應(yīng)注意清潔夾具與鍍件邊緣接觸的部位

  常見(jiàn)問(wèn)題:

  氧化層耐磨和耐蝕性能不良

  解決方法:

  (1)電解液溫度偏高。應(yīng)適當(dāng)降低。

  (2)氧化電壓偏低。應(yīng)適當(dāng)提高。

  (3)電解時(shí)間太長(zhǎng)。應(yīng)適當(dāng)縮短。

  (4)電解液濃度過(guò)高。應(yīng)適當(dāng)降低。

  (5)鍍鋁層被污染。應(yīng)防止鍍件污染

  常見(jiàn)問(wèn)題:

  膜層表面開裂

  (1)一氧化硅的蒸發(fā)速度太快。應(yīng)適當(dāng)減慢。

  (2)一氧化硅鍍膜太厚。應(yīng)適當(dāng)減少蒸發(fā)時(shí)間。一般鍍膜厚度為波長(zhǎng)l的一半為宜。精密控制膜層厚度需用光電膜厚控制儀,簡(jiǎn)單的方法亦可采用目測(cè)。目測(cè)法是根據(jù)表面的干涉色隨厚度增厚而變化的規(guī)律米控制膜厚,其表面顏色的變化規(guī)律為:黃一紅一紫一綠一黃一紅。

  在蒸鍍時(shí),若觀察到第二次干涉色為黃色或紅色時(shí),立即停止蒸發(fā),即可獲得適宜的膜厚。

  (3)鍍后熱處理工藝條件控制不當(dāng)。應(yīng)按緩慢升溫和降溫的要求進(jìn)行烘烤處理

  常見(jiàn)問(wèn)題:

  氧化電壓升不高

  解決方法:

  (1)接觸點(diǎn)被擊穿。應(yīng)變換接觸點(diǎn)。

  (2)電解液濃度不正常。應(yīng)調(diào)整電解液濃度。

  (3)接觸點(diǎn)接觸不良。應(yīng)改進(jìn)接觸方式

  常見(jiàn)問(wèn)題:

  鍍鋁層表面呈藍(lán)灰色

  解決方法:

  (1)鍍鋁層偏厚。應(yīng)適當(dāng)縮短蒸鍍時(shí)間。

  (2)真空度太低。應(yīng)適當(dāng)提高蒸發(fā)時(shí)的真空度。

  (3)蒸發(fā)速度太慢。應(yīng)將蒸發(fā)速度提高至3x10—3mnl~$。

  (4)蒸發(fā)源上無(wú)鋁,仍繼續(xù)加熱。應(yīng)補(bǔ)加鋁絲或鋁箔。

  (5)蒸發(fā)源上鋁材的純度太低。應(yīng)使用純度為99.9%—99.99%的鋁絲或鋁箔

  常見(jiàn)問(wèn)題:

  膜層表面發(fā)紅

  解決方法:

  一氧化硅鍍膜太薄。應(yīng)適當(dāng)延長(zhǎng)蒸鍍時(shí)間

  常見(jiàn)問(wèn)題:

  膜層不耐磨

  解決方法:

  (1)一氧化硅鍍膜太薄。應(yīng)適當(dāng)延長(zhǎng)一氧化硅膜的蒸發(fā)時(shí)間。

  (2)鍍后熱處理工藝控制不當(dāng)。應(yīng)按工藝規(guī)程進(jìn)行烘烤

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