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什么是化學(xué)氣相蒸鍍(CVD)?
發(fā)布時(shí)間:2024-07-26 瀏覽:353 次

  化學(xué)氣相蒸鍍是使用一種或多種氣體,在一加熱的固體基材上發(fā)生化學(xué)反應(yīng),并鍍上一層固態(tài)薄膜。

  化學(xué)氣相蒸鍍?nèi)秉c(diǎn):

  1、熱力學(xué)及化學(xué)反應(yīng)機(jī)制不易了解或不甚了解

  2、需要在高溫下進(jìn)行,有些基材不能承受,甚至和鍍膜產(chǎn)生作用

  3、反應(yīng)氣體可能具腐蝕性、毒性或爆炸性,處理時(shí)需小心

  4、反應(yīng)生成物可能殘余在鍍膜上,成為雜質(zhì)

  5、基材的遮蔽很難

  化學(xué)氣相蒸鍍優(yōu)點(diǎn):

  1、真空度要求不高,甚至可以不需要真空,例如熱噴覆

  2、沉積速率快,大氣CVD可以達(dá)到1μm/min

  3、與PVD比較的話?;瘜W(xué)量論組成或合金的鍍膜較容易達(dá)成

  4、鍍膜的成份多樣化,如金屬、非金屬、半導(dǎo)體、光電材料、鉆石薄膜

  5、可以在復(fù)雜形狀的基材鍍膜,甚至滲入多孔的陶瓷

  6、厚度的均勻性良好,低壓CVD甚至可以同時(shí)鍍數(shù)十芯片

  本文由真空鍍膜機(jī)廠家愛加真空收集整理自網(wǎng)絡(luò),僅供學(xué)習(xí)和參考!