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什么才是真空環(huán)境?具體解釋! |
發(fā)布時(shí)間:2020-08-25 瀏覽:6925 次 |
在真空科學(xué)中,真空的含義是指在給定的空間內(nèi)低于一個(gè)大氣壓力的氣體狀態(tài)。 人們通常把這種稀薄的氣體狀態(tài)稱為真空狀況。這種特定的真空狀態(tài)與人類賴以生存的大氣在狀態(tài)相比較,主要有如下幾個(gè)基本特點(diǎn): ( 1 )真空狀態(tài)下的氣體壓力低于一個(gè)大氣壓,因此,處于地球表面上的各種真空容器中,必將受到大氣壓力的作用,其壓強(qiáng)差的大小由容器內(nèi)外的壓差值而定。 由于作用在地球表面上的一個(gè)大氣壓約為 10135N/m2,因此當(dāng)容器內(nèi)壓力很小時(shí),則容器所承受的大氣壓力可達(dá)到一個(gè)大氣壓。不同壓強(qiáng)下單位面積上的作用力,如表 1 所示。 ( 2 )真空狀態(tài)下由于氣體稀薄,單位體積內(nèi)的氣體分子數(shù),即氣體的分子密度小于大氣壓力的氣體分子密度。 因此,分子之間、分子與其他質(zhì)點(diǎn)(如電子、離子等)之間以及分子與各種表面(如器壁)之間相互碰撞次數(shù)相對(duì)減少,使氣體的分子自由程增大。表 2 給出了常溫下大氣分子平均自由程與大氣壓力的關(guān)系。 表 1 不同壓力下單位面積上的作用力 壓力 (Pa)作用力 (kg/cm2 )壓力 (Pa)作用力 (kg/cm2 ) 1051.033285 × 1036.79755 × 10-2 5 × 1046.79755 × 10-11 × 1031.35951 × 10-2 3 × 1044.07853 × 10-15 × 1026.79755 × 10-3 1 × 1041.35951 × 10-11 × 1021.35951 × 10-3 表 2 常溫下大氣分子平均自由程與大氣壓力的關(guān)系 大氣壓力 (Pa)平均自由程 (cm)大氣 壓力 (Pa)平均自由程 (cm) 1056.5 × 10-61 × 10-35 × 102 1035 × 10-41 × 10-65 × 10-5 1025 × 10-31 × 10-95 × 108 1 × 10-15 × 1001 × 10-45 × 1013 (3) 真空狀態(tài)下由于分子密度的減小,因此做為組成大氣組分的氧、氫等氣體含量 ( 也包括水分的含量 ) 也將相對(duì)減少。表 3 給出了標(biāo)準(zhǔn)大氣的成份。 表 1 標(biāo)準(zhǔn)大氣的成分 成分分子量容積百分比重量百分比分壓強(qiáng)(托) N2(氮)28.01347.08475.520593.44 O2(氧)31.998820.94823.142159.20 Ar (氬)39.9840.9341.2887.10 CO2(二氧化碳)44.009953.14 × 10-24.8 × 10-22.4 × 10 -1* Ne (氖)20.1831.82 × 10-31.3 × 10-31.4 × 10-2 He (氦)4.00265.24 × 10-46.9 × 10-94.0 × 10-3 Kr (氪)83.801.14 × 10-43.3 × 10-48.7 × 10-4 Xe (氙)131.308.7 × 10-63.9 × 10-36.6 × 10-5 H2(氫)2.015945 × 10-53.5 × 10-64 × 10-4 CH4(甲烷)16.043032 × 10-41 × 10-41.5 × 10-3 N2O (氧化二氮)44.01285 × 10-58 × 10-44 × 10-3 O3 (臭氧)47.9982夏: 0~7 × 10-60~1 × 10-50~5 × 10-5* 冬: 0~2 × 10-60~0.3 × 10-50~1.5 × 10-5* SO2 (二氧化硫)64.06280~1 × 10-40~2 × 10-40~8 × 10-4* NO2 (二氧化氮)46.0550~2 × 10-60~3 × 10-690~1.5 × 10-5* NH3 (氨)17.030610~ 痕跡量0~ 痕跡量0~ 痕跡量 CO (一氧化碳)28.010550~ 痕跡量0~ 痕跡量0~ 痕跡量 I2(碘)253.80880~1 × 10-60~9 × 10-50~8 × 10*6* * 表示隨時(shí)間、地點(diǎn)而變化的值 真空的這些特點(diǎn)、已被人們?cè)谪S富的生產(chǎn)與科學(xué)實(shí)驗(yàn)中加以利用,這一點(diǎn)我們將在下節(jié)中詳述。 真空的含義及特點(diǎn)其它相關(guān)文檔: 真空的含義及特點(diǎn) 不同真空狀態(tài)下各種真空工藝技術(shù)的應(yīng)用概況 本文由真空鍍膜機(jī)廠家愛(ài)加真空收集自網(wǎng)絡(luò),僅供學(xué)習(xí)和參考! |