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動態(tài)和靜態(tài)真空漏率區(qū)別是什么?
發(fā)布時(shí)間:2015-01-16 瀏覽:6496 次

  動態(tài)真空系統(tǒng)允許漏率

  所謂動態(tài)真空系統(tǒng),指工作時(shí)泵仍然對它 進(jìn)行抽氣的系統(tǒng),如真空冶煉爐,真空鍍膜機(jī),粒子加速器等。

  例如:一臺鍍膜機(jī),對蒸發(fā)室的有效抽速S為100L/S ,要求達(dá)到的極限壓力 P0 為1*10-5 帕,那么該鍍膜機(jī)的允許漏率[Ql]=(1/10)SP0=1*10-4 帕升/秒

  靜態(tài)真空系統(tǒng)的允許漏率

  所謂靜態(tài)真空系統(tǒng),即工作時(shí)已與泵隔離的真空系統(tǒng),一般又稱密閉容器或密閉器件,如顯 像管,電子管等。

  例如:某只電子管,其內(nèi)腔容積為 0.1L ,封離時(shí)的壓力 P0 為 1*10-7帕,電子管正常工作的最高壓力P1為1*10-3 帕,要求器件保存和工作的時(shí)間T為 50000H 。

  那么,該電子管允許 漏率應(yīng)為 [Ql]=(1/10)V ( P1-P0 ) /T=3.6*10-14 帕升/秒

 

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