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| 真空鍍膜電化學清洗知識 |
| 發(fā)布時間：2014-11-07 瀏覽：4258 次 |
電化學清洗是在真空鍍膜生產(chǎn)線上常用的一種表面凈化方法，分為兩種，一種是點解侵蝕，一種是電化學拋光。 電解侵蝕對于侵蝕時間和溶液的要求比較低，比化學侵蝕的效果更好，它分為陽極和陰極，陽極侵蝕是鍍件接陽極，在50~60℃下通過氧氣氣泡的沖擊把氧化物去掉，而陰極侵蝕是鍍膜接陰極，通過氫氣把氧化物還原的同時由于氫氣溢出產(chǎn)生的沖擊力把氧化層去掉。 而陽極侵蝕是最常用的方法，不過對于復雜的鍍件，會出現(xiàn)過度侵蝕和不均勻侵蝕的問題，而陰極侵蝕雖然不會出現(xiàn)過度侵蝕，但會出現(xiàn)滲氫發(fā)脆。 電化學拋光的電解液和點解侵蝕是不一樣的，不過原理差不多，電化學拋光針對金屬的表面凈化效果更好，鍍件接陽極，用面積大于鍍件5倍以上的銅或鋼接陰極，兩極之間距離50~120mm，讓電場集中到高點處使金屬表面的氧化層去除，達到電化學拋光凈化的效果，金屬鍍件表面會變得很均勻，有光澤。
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