色欲蜜臀av一区二区三区_欧美日性生活免费看_国产真实露脸熟女乱视频_成人在线亚洲欧美_а天堂最新版中文网_动漫美女被强奷视频免费网站_a级淫片免费看_女人本色高清在线观看播放器_视频无码高清网站_卡一卡二无码

            
當(dāng)前位置:網(wǎng)站首頁 > 技術(shù)中心

技術(shù)中心 Technology

真空鍍膜機磁控濺射和電阻蒸發(fā)區(qū)別
發(fā)布時間:2014-10-18 瀏覽:5639 次

  濺射鍍膜就是利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且最終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,最終形成薄膜。

  濺射鍍膜又分為很多種,與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。

  濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。

  電阻蒸發(fā)鍍膜是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。

  電阻蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

推薦閱讀

如何選擇合適的真空計?

氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏優(yōu)缺點?