制備銀納米粒子的常用方法有物理方法和化學(xué)方法。化學(xué)方法包括溶膠凝膠法、電鍍法、氧化一還原法、靜電噴涂法。利用化學(xué)方法所得到的銀顆粒最小可達幾納米。
實驗簡單、方便,但所得銀顆粒不易轉(zhuǎn)移和組裝,且雜質(zhì)含量較高,容易形成團聚大顆粒。
物理制備方法主要有真空蒸鍍、濺射底和離子鍍。
濺射鍍又包括直流濺射鍍、磁控濺射鍍、射頻濺射鍍、反應(yīng)濺射鍍和新發(fā)展的微波控制的共濺射鍍等。真空蒸發(fā)方法是發(fā)展最早、應(yīng)用最廣的銀納米粒子的制備方法,其原理簡單,操作方便。
通過控制蒸發(fā)參數(shù)可制備幾納米到幾十納米的顆粒,但所得納米粒子定向生長性差,納米粒子分散度大,顆粒形狀和粒度分布不均勻。
濺射方法是20世紀(jì)40年代開始發(fā)展的制備方法,在現(xiàn)代工業(yè)和科學(xué)研究中得到廣泛應(yīng)用。濺射方法與蒸發(fā)方法一樣,操作簡單。
特別是1970年出現(xiàn)的磁控濺射技術(shù),具有高速、低溫兩大特點,通過對濺射參數(shù)的控制,可以制備出幾納米到幾十納米的顆粒,所得納米顆粒尺寸小,定向生長性妤,顆粒形狀較整齊,粒度小,較均勻。離子鍍也是一種新型的制備方法,所制備的納米顆粒尺寸小,粒子形狀整齊,粒度也較均勻,但其設(shè)備較昂貴。
最新的納米粒子的制備設(shè)備是流動液面真空蒸鍍裝置,它可制備出0.1nm的團簇粒子,顆粒均勻度很高,是一種非常好的銀納米制備設(shè)備,但設(shè)備昂貴,不適合運用于工業(yè)生產(chǎn)中。
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