以濺射的方法進(jìn)行真空鍍膜,由于其鍍膜方式的不同,同樣的鍍材所制備的薄膜效果也會(huì)不一樣的,雖然肉眼無(wú)法看出來(lái),但確實(shí)擁有一定的優(yōu)勢(shì)。
膜厚穩(wěn)定性好,由于濺射鍍膜膜層的厚度與靶電流和放電電流具有很大的關(guān)系,電流越高,濺射效率越大,相同時(shí)間內(nèi),所鍍膜層的厚度相對(duì)就大了,因?yàn)橹灰央娏鲾?shù)值控制好,需要鍍多厚,或者多薄的膜層都可以了,當(dāng)然這個(gè)厚度是在可允許的范圍內(nèi),而且控制好電流,無(wú)論重復(fù)鍍多少次,膜層厚度都不會(huì)變化,膜厚的穩(wěn)定性可歸結(jié)為膜厚良好的可控性和重復(fù)性。
膜層結(jié)合力強(qiáng),在濺射過(guò)程中,有部分電子撞擊到基材表面,激活表面原子,并且產(chǎn)生清潔的作用,而鍍材通過(guò)濺射所獲得的能量比蒸發(fā)所獲得的能量高出1到2個(gè)數(shù)量級(jí),帶有如此高能量的鍍材原子撞擊到基材表面時(shí),有更多的能量可以傳遞到基材上,產(chǎn)生更多的熱能,使被電子激活的原子加速運(yùn)動(dòng),與部分鍍材原子更早互相溶合到一起,其他鍍材原子緊隨著陸續(xù)沉積成膜,加強(qiáng)了膜層與基材的結(jié)合力。
鍍材范圍廣,由于濺射鍍膜是通過(guò)氬離子的高速轟擊使鍍材濺射出來(lái)的,不像蒸發(fā)鍍膜由于熔點(diǎn)的原因而限制只能使用熔點(diǎn)比較低的鍍材,而濺射鍍膜幾乎所有固體的物質(zhì)都可以成為鍍材。
由以上幾點(diǎn)可以看出濺射真空鍍膜確實(shí)比蒸發(fā)真空鍍膜的效果好,其原理的不同決定了濺射制備的膜層厚度更穩(wěn)定,結(jié)合力更強(qiáng),鍍材范圍更廣。 |