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濺射真空鍍膜的優(yōu)點(diǎn)是怎樣的?
發(fā)布時(shí)間:2014-09-09 瀏覽:5463 次

  以濺射的辦法來進(jìn)行真空鍍膜,因?yàn)樗兡し绞讲煌?,一樣的鍍材所制備出來的薄膜效果?huì)不同,雖肉眼不能看出,但確實(shí)有一定優(yōu)勢(shì)。

  膜厚穩(wěn)定性較好,因?yàn)闉R射鍍膜膜層的厚度和靶電流以及放電電流具有非常大的關(guān)系,電流越高,濺射效率也就越大,相同時(shí)間內(nèi),所鍍膜層的厚度相對(duì)就大了,因?yàn)橹灰央娏鲾?shù)值控制好,需要鍍多厚,或者多薄的膜層都可以了。

  當(dāng)然這個(gè)厚度是在可允許的范圍內(nèi),而且控制好電流,無論重復(fù)鍍多少次,膜層厚度都不會(huì)變化,膜厚的穩(wěn)定性可歸結(jié)為膜厚良好的可控性和重復(fù)性。

  膜層的結(jié)合力強(qiáng),在濺射過程里,有部分電子會(huì)撞擊到基材表面,激活表面原子,且產(chǎn)生清潔作用,而鍍材通過濺射所獲得的能量比蒸發(fā)所獲得的能量高出1到2個(gè)數(shù)量級(jí)。

  帶有如此高能量的鍍材原子撞擊到基材表面時(shí),有更多的能量可以傳遞到基材上,產(chǎn)生更多的熱能,使被電子激活的原子加速運(yùn)動(dòng),與部分鍍材原子更早互相溶合到一起,其他鍍材原子緊隨著陸續(xù)沉積成膜,加強(qiáng)了膜層與基材的結(jié)合力。

  鍍材的范圍也很廣泛,因?yàn)闉R射膜是通過氬離子高速轟擊使鍍材濺射出來,不像蒸發(fā)鍍膜由于熔點(diǎn)的原因而限制只能使用熔點(diǎn)比較低的鍍材,而濺射鍍膜幾乎所有固體的物質(zhì)都可以成為鍍材。

  由此可以看出,濺射真空鍍膜確實(shí)要比蒸發(fā)真空鍍膜的效果較好,其原理不同決定著濺射制備的膜層厚度更穩(wěn)定,結(jié)合力更強(qiáng),鍍材的范圍也就更廣。

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