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真空鍍膜機(jī)檢漏的目的是什么?
發(fā)布時(shí)間:2014-08-13 瀏覽:4375 次

  一個(gè)理想的真空鍍膜機(jī),應(yīng)當(dāng)是不存在任何漏孔,不產(chǎn)生任何漏氣現(xiàn)象的。但是,對(duì)任何真空系統(tǒng)或真空容器來說,絕對(duì)不漏的現(xiàn)象是不可能的。

  特別是在壓力極低的情況下,隨著漏氣現(xiàn)象的影響不斷加劇,真空度達(dá)不到預(yù)定的工藝要求,是一個(gè)相當(dāng)普遍的問題。

  為此,檢測(cè)真空鍍膜機(jī)或真空容器存在的漏氣部位、確定漏孔的大小、堵塞漏孔從而消除漏氣現(xiàn),就成為真空技術(shù)工作者的一項(xiàng)重要工作。

  所謂漏氣或稱實(shí)漏,它是指氣體通過真空系統(tǒng)上的漏孔或間隙,從高壓側(cè)流向低壓側(cè)的一種現(xiàn)象。真空檢漏技術(shù)中的一些常用基本概念主要有以下幾點(diǎn)。

  (1)虛漏。

  是相對(duì)于實(shí)漏而言的一種物理現(xiàn)象。這種現(xiàn)象大都是由于材料的放氣、解吸、凝解氣體的再蒸發(fā)或系統(tǒng)內(nèi)存在死空間中氣體的流出等原因,而引起真空系統(tǒng)或容器中壓力升高的一種現(xiàn)象。

  在真空檢漏作業(yè)時(shí),需要排除虛漏的影響。

  (2)氣密性。

  它是表征真空系統(tǒng)或容器的壁對(duì)空氣不可滲透程度的一種性能。

  (3)漏孔。

  是指真空器壁上存在的形狀不定、極其微小的孔洞或間隙。大氣通過這種小孔或間隙進(jìn)入真空系統(tǒng)或容器中。

  (4)漏率。即漏氣速率。

  它是指單位時(shí)間內(nèi)通過漏孔或間隙流到真空系統(tǒng)或容器內(nèi)的氣體量。

  (5)最小可檢漏率。

  它是指采用某種檢漏方法或儀器可能檢測(cè)出來的最小漏率。

  (6)檢漏靈敏度。

  或稱有效靈敏度,即檢漏儀器在最佳工作狀態(tài)下能檢測(cè)出的最小漏率。

  (7)反應(yīng)時(shí)間。

  又稱響應(yīng)時(shí)間,它是指從檢漏方法開始實(shí)施(如開始噴射示漏氣體)到指示方法或儀器指示值上升到其最大值的63%時(shí)所需要的時(shí)間。

  (8)消除時(shí)間。

  它是指從檢漏方法停止(如停止噴吹試漏氣體)到指示方法或儀器指示值下降到停止值的37 %時(shí)所需要的時(shí)間。

  9)漏孔堵塞現(xiàn)象。

  它是指由塵?;蛞后w所造成的漏孔堵塞,這些堵塞常常是指由于檢漏作業(yè)操作不當(dāng)而導(dǎo)致發(fā)生的一種暫時(shí)現(xiàn)象,檢漏時(shí)似乎不漏氣,但一經(jīng)排氣又會(huì)出現(xiàn)漏氣的一種現(xiàn)象。

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