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濺射鍍膜設備的原理分析和講解
發(fā)布時間:2014-07-01 瀏覽:5139 次

  濺射鍍膜就是用高能粒子(通常是由電場加速的正離子)轟擊固體表面,固體表面的原子、分子與入射的高能粒子交換動能后從固體表面飛濺出來的現(xiàn)象稱為濺射。

  濺射出來的原子(或原子團)具有—定的能量,它們可以重新沉積凝聚在固體基片表面上形成薄膜,稱為濺射鍍膜。通常是利用氣體放電產生氣體電離,其正離子在電場作用下高速轟擊陰極靶材,擊出陰極靶材的原子或分子,飛向被鍍基片表面沉積成薄膜。

  具有一定能量的離子入射到靶材表面時,入射離子與靶材中的原子和電子相互作用,可能發(fā)生如圖1 所示的一系列物理現(xiàn)象。

  其一是引起靶材表面的粒子發(fā)射,包括濺射原子或分子、二次電子發(fā)射、正負離子發(fā)射、吸附雜質解吸和分解、光子輻射等;

  其二是在靶材表面產生一系列的物化效應,有表面加熱、表面清洗、表面刻蝕、表面物質的化學反應或分解;

  第三是一部分入射離子進入到靶材的表面層里,成為注入離子,在表面層中產生包括級聯(lián)碰撞、晶格損傷及晶態(tài)與無定型態(tài)的相互轉化、亞穩(wěn)態(tài)的形成和退火、由表面物質傳輸而引起的表面形貌變化、組分及組織結構變化等現(xiàn)象。

  被荷能粒子轟擊的靶材處于負電位,所以也稱濺射為陰極濺射。將物體置于等離子體中,當其表面具有一定的負電位時,就會發(fā)生濺射現(xiàn)象,只需要調整其相對等離子體的電位,就可以獲得不同程度的濺射效應,從而實現(xiàn)濺射鍍膜,濺射清洗或濺射刻蝕以及輔助沉積過程。

  濺射鍍膜、離子鍍和離子注入過程中都利用了離子與材料的這些作用,但側重點不同。

  濺射鍍膜中注重靶材原子被濺射的速率;離子鍍著重利用荷能離子轟擊基片表層和薄膜生長面中的混合作用,以提高薄膜附著力和膜層質量;而離子注入則利用注入元素的摻雜、強化作用,以及輻照損傷引起的材料表面的組織結構與性能的變化。

  以上就是愛加真空為各位講解的關于濺射鍍膜的工作原理,我公司專業(yè)提供各種濺射鍍膜設備的銷售、維修、維護、保養(yǎng),歡迎來電咨詢洽談,服務熱線:13827202848

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