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真空鍍膜設(shè)備技術(shù)一般術(shù)語
發(fā)布時(shí)間:2014-03-05 瀏覽:4132 次

真空鍍膜設(shè)備技術(shù)一般術(shù)語

1真空鍍膜vacuum coating:在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法。

2基片substrate:膜層承受體。

3試驗(yàn)基片testing substrate:在鍍膜設(shè)備開始、鍍膜過程中或鍍膜結(jié)束后用作測(cè)量和(或)試驗(yàn)的基片。

4鍍膜材料coating material:用來制取膜層的原材料。

5蒸發(fā)材料evaporation material:在真空蒸發(fā)中用來蒸發(fā)的鍍膜材料。

6濺射材料sputtering material:有真空濺射中用來濺射的鍍膜材料。

7膜層材料(膜層材質(zhì))film material:組成膜層的材料。

8蒸發(fā)速率evaporation rate:在給定時(shí)間間隔內(nèi),蒸發(fā)出來的材料量,除以該時(shí)間間隔

9濺射速率sputtering rate:在給定時(shí)間間隔內(nèi),濺射出來的材料量,除以該時(shí)間間隔。

10沉積速率deposition rate:在給定時(shí)間間隔內(nèi),沉積在基片上的材料量,除以該時(shí)間間隔和基
片表面積。

11鍍膜角度coating angle:入射到基片上的粒子方向與被鍍表面法線之間的夾角。

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