當今鍍膜行業(yè)使用的制作方式主要有兩種,一種是化學氣相沉積,也就是化學鍍膜(CVD),一種是物理氣相沉積,也就是真空鍍膜(PVD)。
化學鍍膜是把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室,在襯底表面發(fā)生化學反應生成薄膜的過程。在化學鍍膜的過程中,容易產(chǎn)生溶液污染,如果鍍件表層雜質(zhì)多,鍍出來的效果不好。
化學鍍膜需要的反應溫度很高,一般要控制在1000℃左右,但很多基體材料是無法經(jīng)受如此高溫,即使是硬質(zhì)合金,雖然能經(jīng)受高溫,但在化學鍍膜制作的環(huán)境下由于高溫也會造成晶粒粗大,引起脆性相,性能變壞。如果在硬質(zhì)合金刀具上蒸鍍Tin,基體擴散出來的碳會與溶液發(fā)生反應而形成脫碳層,該層韌性差,抗彎強度低,造成刀具使用壽命縮短。
真空科技研發(fā)的真空鍍膜機很好的解決了化學鍍膜產(chǎn)生的一系列問題。真空鍍膜是在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。
所有的鍍層材料都是在真空的環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面,解決了化學鍍膜中的溶液污染問題,不會產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì),鍍出來的膜層硬度更高,耐磨性和耐腐蝕性好,性能更穩(wěn)定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150~500℃以下,適用于多種基體材料,可制備多姿多彩的膜層,鍍制硬質(zhì)合金刀具可使其壽命提高2~10倍。
由此可見,真空鍍膜是鍍膜行業(yè)發(fā)展的必然趨勢,其應用已經(jīng)引起了世界各國制造業(yè)的高度重視,對環(huán)境無污染,符合現(xiàn)代綠色制造的發(fā)展方向,從二十世紀50年代開始,化學鍍膜就逐步被真空鍍膜取代。
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