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磁控濺射真空鍍膜機造成不均勻的因素有哪些? |
發(fā)布時間:2014-02-13 瀏覽:4076 次 |
磁控濺射真空鍍膜機造成不均勻的因素主要有真空狀態(tài)、磁場、氬氣這三個方面。
磁控濺射真空鍍膜機的運作就是通過真空狀態(tài)下正交磁場使電子轟擊氬氣形成的氬離子再轟擊靶材,靶材離子沉積于工件表面成膜。
真空狀態(tài)就需要抽氣系統(tǒng)來控制的,每個抽氣口都要同時開動并力度一致,這樣就可以控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內的壓強就不能均勻了,壓強對離子的運動是存在一定的影響的。另外抽氣的時間也要控制,太短會造成真空度不夠,但太長又浪費資源,不過有真空計的存在,要控制好還是不成問題的。
磁場是正交運作的,但你要把磁場強度做到百分之一百均勻是不可能的,一般磁場強的地方,成膜厚度就大,相反就小,所以會造成膜層厚度的不一致,不過在生產過程中,由于磁場的不均勻導致的膜層不均勻的情況卻不是常見的,為什么呢?原來磁場強弱雖然不好控制,但同時工件也在同時運轉,而且是靶材原子多次沉積才會結束鍍膜工序,在一段時間內雖然某些部位厚,某些部位薄,但另一個時間內,磁場強的作用下在原來薄的部位沉積上厚的,在厚的部位沉積上薄的,如此多次,整個膜層最終成膜后,均勻性還是比較不錯的。
氬氣的送氣均勻性也會對膜層的均勻性產生影響,原理其實和真空度差不多,由于氬氣的進入,真空室內壓強會產生變化,均勻的壓強大小可以控制成膜厚度的均勻性。
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