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磁控濺射真空鍍膜機(jī)造成不均勻的因素有哪些?
發(fā)布時(shí)間:2014-01-09 瀏覽:10956 次

    磁控濺射真空鍍膜機(jī)造成不均勻的因素主要有真空狀態(tài)、磁場、氬氣這三個(gè)方面。

 

    磁控濺射真空鍍膜機(jī)的運(yùn)作就是通過真空狀態(tài)下正交磁場使電子轟擊氬氣形成的氬離子再轟擊靶材,靶材離子沉積于工件表面成膜。

 

    真空狀態(tài)就需要抽氣系統(tǒng)來控制的,每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開動(dòng)并力度一致,這樣就可以控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內(nèi)的壓強(qiáng)就不能均勻了,壓強(qiáng)對離子的運(yùn)動(dòng)是存在一定的影響的。另外抽氣的時(shí)間也要控制,太短會造成真空度不夠,但太長又浪費(fèi)資源,不過有真空計(jì)的存在,要控制好還是不成問題的。

 

    磁場是正交運(yùn)作的,但你要把磁場強(qiáng)度做到百分之一百均勻是不可能的,一般磁場強(qiáng)的地方,成膜厚度就大,相反就小,所以會造成膜層厚度的不一致,不過在生產(chǎn)過程中,由于磁場的不均勻?qū)е碌哪硬痪鶆虻那闆r卻不是常見的,為什么呢?原來磁場強(qiáng)弱雖然不好控制,但同時(shí)工件也在同時(shí)運(yùn)轉(zhuǎn),而且是靶材原子多次沉積才會結(jié)束鍍膜工序,在一段時(shí)間內(nèi)雖然某些部位厚,某些部位薄,但另一個(gè)時(shí)間內(nèi),磁場強(qiáng)的作用下在原來薄的部位沉積上厚的,在厚的部位沉積上薄的,如此多次,整個(gè)膜層最終成膜后,均勻性還是比較不錯(cuò)的。

 

    氬氣的送氣均勻性也會對膜層的均勻性產(chǎn)生影響,原理其實(shí)和真空度差不多,由于氬氣的進(jìn)入,真空室內(nèi)壓強(qiáng)會產(chǎn)生變化,均勻的壓強(qiáng)大小可以控制成膜厚度的均勻性。

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